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उत्पाद अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न
एनपीएम-डी3ए दोहरे ट्रैक माउंटिंग विधि को अपनाता है, जिसकी माउंटिंग गति 171,000 सीपीएच तक है और इकाई उत्पादकता 27,800 सीपीएच/㎡ है
JUKI RS-1R SMT मशीन इष्टतम स्थितियों के तहत 47,000 CPH की प्लेसमेंट गति प्राप्त कर सकती है
JUKI KE-2070E प्लेसमेंट मशीन में उच्च गति प्लेसमेंट क्षमता है, जिसकी प्लेसमेंट गति 23,300 पीस/घंटा है
KE-2080M 0.178 सेकंड में 20,200 चिप घटकों को माउंट कर सकता है, जिसकी माउंटिंग गति 20,200CPH (इष्टतम स्थितियों के तहत) है।
इसके अलावा, 0402 चिप ~ □14 मिमी नर्स मूल रूप से संगत हैं, और उच्च गति कार्यशाला इलेक्ट्रिक फीडर का उपयोग करके वास्तविक उत्पादकता और एसएमटी गुणवत्ता में सुधार किया जाता है।
एसएम481 त्वरित प्रतिक्रिया की बाजार मांग को पूरा करने के लिए उत्कृष्ट गति और परिशुद्धता के साथ उत्पादन दक्षता में सुधार करता है।
G5 SMT एक नई ऑप्टिकल पथ प्रणाली को अपनाता है, जिसमें समान कुंडलाकार प्रकाश और उच्च चमक वाला समाक्षीय प्रकाश शामिल है
GI14 में दो 7-अक्षीय उच्च गति वाले प्लेसमेंट हेड का उपयोग किया गया है, जिनकी प्लेसमेंट गति 0.063 सेकंड (57,000 cph) है।
एसआई-जी200एमके3 एक लटकते बुद्धिमान फीडर से सुसज्जित है, जो इलेक्ट्रॉनिक घटकों को कुशलतापूर्वक और बिना शोर के बढ़ा और माउंट कर सकता है।
एएसएम माउंटर डी1 में उच्च रिज़ॉल्यूशन है, जो माउंटिंग प्रक्रिया के दौरान अत्यंत उच्च सटीकता सुनिश्चित कर सकता है
एएसएम एसएमटी डी4 उन्नत दृश्य पहचान प्रौद्योगिकी और सटीक गति नियंत्रण प्रणाली से सुसज्जित है
X4i प्लेसमेंट मशीन एक अद्वितीय डिजिटल रीजनिंग सिस्टम के माध्यम से उत्पाद की गुणवत्ता की स्थिरता और विश्वसनीयता सुनिश्चित करती है
GXH-1S SMT की SMT सटीकता +/-0.01mm जितनी अधिक है, और SMT गति 95,000 चिप्स/घंटा तक पहुँचती है
सिग्मा F8 की प्लेसमेंट सटीकता 03015 चिप्स के लिए ±25μm (3σ) और इष्टतम स्थितियों के तहत 0402/0603 चिप्स के लिए ±36μm (3σ) तक पहुंच सकती है
जेनेसिस GC-60D की प्लेसमेंट गति अधिक है, जो 66,500 कण/घंटा (0.054 सेकंड/कण) तक पहुंच सकती है
यूनिवर्सल GX11D और जेनेसिस GX-11D प्लेसमेंट मशीनें दोहरे-कैंटिलीवर को अपनाती हैं
ग्लोबल चिप माउंटर GC30 एक 30-अक्ष लाइटनिंग चिप हेड से सुसज्जित है, जिसमें प्रति चिप 0.1 सेकंड तक की चिप गति है
प्लेसमेंट सटीकता: ±41 माइक्रोन/3σ(C&P) से ±34 माइक्रोन/3σ(P&P)
प्लेसमेंट गति: 62000 CPH (शुरू में 62000 घटक रखे जाते हैं)
एएसएम एक्स2एस प्लेसमेंट मशीन 0201 से लेकर 200x125 मिमी तक के भागों को रख सकती है
बीटीयू पाइरामैक्स-100 रिफ्लो ओवन 100 से 2000 डिग्री तक तापमान को सटीक रूप से नियंत्रित कर सकता है, और यह गैस नियंत्रण में भी विश्व में अग्रणी है
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