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HELLER 2043MK5-VR 真空リフロー炉の利点は、主に次のとおりです。
効率的な加熱および冷却システム: 2043MK5-VR には、合計加熱長さ 430 cm の 10 個の加熱対流ゾーンと 3 個の赤外線ゾーンがあり、回路基板を素早く加熱できます。大型の真空チャンバーは最大 500 mm の長さの回路基板を収容でき、3 つの冷却ゾーンは 3°C/秒を超える高速冷却速度を提供し、大型の回路基板でも簡単に処理できます。
大量生産能力：この装置は大量生産向けに設計されており、伝送速度は最大1.4メートル/分で、高効率生産のニーズを満たすことができます。強化された加熱モジュールと最速の冷却傾斜により、大量生産に優れています。
省エネ・環境に優しい設計：HELLER 2043MK5-VR は省エネ・窒素節約設計を採用し、窒素/空気鉛フリーリフローはんだ付けシステムをサポートし、エネルギー消費と環境汚染の削減に役立ちます。
メンテナンスが便利：装置の設計はシンプルで、メンテナンスも簡単です。例えば、冷却システムは水冷式の「凝縮ダクト」設計を採用し、フラックスは収集ボトルに回収されるため、オンラインメンテナンスに便利で、時間を節約できます。
高度な技術と高品質の生産: HELLER は、継続的な技術革新と顧客との協力を通じて、機器のパフォーマンスを継続的に向上させています。2043MK5-VR には、生産プロセスの安定性と高品質を確保するための ECD-CPK プロセス監視ツールが組み込まれています。
汎用性と適応性: この装置は、自動車、医療、3C、航空宇宙、軍事産業など、さまざまな用途に適しています。その汎用性と強力な加熱および冷却機能により、さまざまな生産環境で優れたパフォーマンスを発揮します。
