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DISCO wafer cutting machine DFL7341

DISCO ウェーハ切断機 DFL7341

高精度切断:DFL7341はレーザー不可視切断技術を使用して、シリコンウェーハの内側のみに改質層を形成します。

詳細

DISCO DFL7341 レーザー不可視切断機には、次の利点と仕様があります。

利点 低損傷、高精度切断:DFL7341はレーザー不可視切断技術を使用してシリコンウェーハの内側にのみ改質層を形成し、処理破片の発生を抑制し、粒子要件の高いサンプルに適しています。切断溝幅は非常に狭くすることができ、切断経路を短縮し、ウェーハへの損傷を軽減するのに役立ちます。

乾式加工技術:この装置は乾式加工技術、乾燥、洗浄を採用しており、疲労耐性の低い物体の加工に適しています。

効率的な生産: DFL7341 は、LED サファイア、タンタル酸リチウム、マイクロ電気機械システム (MEMS) などの高い生産要件が求められるアプリケーションに適しています。Stealth Dicing™ プロセスにより、炭化ケイ素 (SiC) や窒化ガリウム (GaN) などの脆性材料を無駄なく切断できます。

幅広い用途: この装置は、サファイア、シリコンカーバイド、イオン化ガリウム (GaAs) など、さまざまな材料に適しており、高品質の処理結果を提供できます。

仕様 主な構成部品:カセットリフト、コンベア、照準システム、処理システム、操作システム、ステータスインジケーター、レーザーエンジン、チラーなど。

精度指標:作業ディスク精度:X軸軸精度≤0.002mm/210mm、Y軸軸精度≤0.003mm/210mm、Y軸位置決め精度≤0.002mm/5mm、Z軸位置決め精度≤0.001mm

切断速度: X軸切断速度1~1000 mm/s、Y軸寸法分解能0.1ミクロン、移動速度200 mm/s、Z軸寸法分解能0.1ミクロン、移動速度50 mm/s

適用材料と厚さ:純粋なシリコンウェーハのミリメートル切断のみをサポートし、シリコンウェーハの厚さは0.1〜0.7、粒径は0.5mm以上です。ダイシングスクリーンの輪郭は約1ミクロンで、ウェーハの表面と裏面にドームエッジや不快感はありません。

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