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DISCO wafer cutting machine DFL7341

Máquina cortadora de obleas DISCO DFL7341

Corte de alta precisión: DFL7341 utiliza tecnología de corte invisible por láser para formar una capa modificada solo dentro de la oblea de silicio

Detalles

La máquina de corte invisible láser DISCO DFL7341 tiene las siguientes ventajas y especificaciones:

Ventajas Corte de alta precisión y poco daño: DFL7341 utiliza tecnología de corte invisible por láser para formar una capa modificada solo dentro de la oblea de silicio, lo que suprime la generación de residuos de procesamiento y es adecuado para muestras con altos requisitos de partículas. El ancho de la ranura de corte puede ser muy estrecho, lo que ayuda a reducir la trayectoria de corte y reducir el daño a la oblea.

Tecnología de procesamiento en seco: El equipo utiliza tecnología de procesamiento en seco, secado y limpieza, y es adecuado para procesar objetos con poca resistencia a la fatiga.

Producción eficiente: DFL7341 es adecuado para aplicaciones con altos requisitos de producción, como zafiro LED, tantalato de litio y sistemas microelectromecánicos (MEMS). Su proceso Stealth Dicing™ permite cortar materiales frágiles como carburo de silicio (SiC) y nitruro de galio (GaN) sin desperdicios.

Amplia gama de aplicaciones: el equipo es adecuado para una variedad de materiales, incluidos zafiro, carburo de silicio, galio ionizado (GaAs), etc., y puede proporcionar resultados de procesamiento de alta calidad.

Especificaciones Componentes principales: Incluye elevador de casete, transportador, sistema de puntería, sistema de procesamiento, sistema operativo, indicador de estado, motor láser, enfriador, etc.

Indicadores de precisión: Precisión del disco de trabajo: Precisión axial del eje X ≤0,002 mm/210 mm, Precisión axial del eje Y ≤0,003 mm/210 mm, Precisión de posicionamiento del eje Y ≤0,002 mm/5 mm, Precisión de posicionamiento del eje Z ≤0,001 mm

Velocidad de corte: Velocidad de corte del eje X 1-1000 mm/s, resolución dimensional del eje Y 0,1 micrones, velocidad de movimiento 200 mm/s, resolución dimensional del eje Z 0,1 micrones, movimiento 50 mm/s

Materiales y espesores aplicables: Solo admite corte milimétrico de obleas de silicio puro, el espesor de las obleas de silicio es de 0,1 a 0,7, el tamaño del grano es superior a 0,5 mm. El contorno de la pantalla de corte es de aproximadamente una micra y no hay borde de cúpula ni molestias en la superficie y la parte posterior de la oblea.

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